溅射薄膜沉积技术原理
电镀材料的气化、迁移、沉积在基板上
什么是物理气相沉积（PVD） 薄膜技术？
沉积的方法有真空蒸发、溅射沉积、电弧等离子镀等
浅析半导体行业用的溅射靶材
溅射靶材金属的纯度需99.999%及以上
关于金属材料你想知道的一切
金属材料的种类、工艺性能和使用性能、特征
最新行情铜锭价格多少钱一吨
2022年1月17日电解铜锭最新价格70580-71200元/吨
2021-11-11 16:39:47 1254人浏览
真空蒸发镀膜是将固体材料（简称蒸镀材料）在高真空环境中加热，沉积在加工基板上，得到薄膜的过程。
2021-11-11 15:57:55 1240人浏览
溅射沉积是一种物理气相沉积技术，通过高能粒子轰击靶材，粒子从固体靶材中喷射出来。它是一种将金属或其他材料薄膜沉积到各种表面上的电子工艺。
